pibitek.biz -Perusahaan semikonduktor asal China, Hubei Dinglong Holdings berencana menggelontorkan investasi sebesar CNY 804 juta (sekitar USD 113 juta) untuk membangun pabrik pembuat photoresist KrF dan ArF. Photoresist merupakan bahan sensitif terhadap cahaya yang sangat penting dalam produksi chip sirkuit terpadu (IC) canggih. Pabrik ini akan berlokasi di Qianjiang, provinsi Hubei, sebagai langkah penting untuk meningkatkan kemandirian industri manufaktur chip China.
2 – Greelance Catat Rekor Pendapatan dan Peluncuran Modul AI 2 – Greelance Catat Rekor Pendapatan dan Peluncuran Modul AI
3 – Apple AI dan Investor Harapkan Pertumbuhan Pendapatan 3 – Apple AI dan Investor Harapkan Pertumbuhan Pendapatan
Dilaporkan bahwa fasilitas ini akan memiliki kapasitas produksi tahunan sebanyak 300 ton photoresist KrF dan ArF. Photoresist KrF umumnya digunakan pada chip dengan ukuran 130 nanometer dan 250 nm, sedangkan photoresist ArF digunakan pada semikonduktor dengan ukuran 14 nm ke bawah. Dinglong menyatakan bahwa China sangat bergantung pada impor photoresist, dan jika mereka berhasil mencapai produksi massal ArF dan KrF photoresist serta membangun basis pelanggan yang kuat, hal ini akan memberikan manfaat ekonomi yang signifikan.
Saat ini, perusahaan yang berbasis di Wuhan ini telah mengembangkan 13 jenis ArF dan KrF photoresist, di mana lima di antaranya telah dikirim ke klien untuk pengujian. Dalam pengelolaan investasi, konstruksi, dan operasional proyek ini, Dinglong akan membentuk sebuah joint venture. Perusahaan ini akan memiliki 75 persen saham di JV, dua perusahaan yang dimiliki oleh staf kunci akan memiliki 20 persen ekuitas, dan sisanya akan dimiliki oleh investor eksternal.
Sayangnya, belum ada rincian mengenai jadwal konstruksi yang diberikan. Menurut Dinglong, pasar photoresist IC China tumbuh 13,5 persen tahun lalu menjadi CNY 3,4 miliar (USD 470,8 juta) dan diperkirakan akan mencapai CNY 3,8 miliar pada tahun 2025. Dari jumlah tersebut, pasar KrF dan ArF photoresist akan menyumbang sekitar CNY 2,5 miliar.
